不用再等EUV光刻机中芯世界全新工艺诞生有决心冲刺7nm

不必再等EUV光刻机！中芯国际全新工艺诞生，有决心冲刺7nm！提起芯片制作企业，咱们第一个想到的会是台积电，紧随其后的便是中芯国际。确实，中芯国际仍是一个很年青的企业，建立时刻乃至不超越二十年，但中芯国际获得的成果咱们也是众所周知的，近年来，中芯国际在芯片的制程工艺上不断获得前进，一路高歌猛进，乃至挤入了全球芯片代工职业的前三甲，这是非常值得咱们自豪的工作。

无疑，中芯国际的成功给我国半导体职业带来了很大的期望，由于在此前，我国半导体职业开展彻底依托政府很多的资金投入，而中芯国际这家企业却很好的选用“市场化运作”闯出了一片天。从28nm到14nm，再到现在的7nm工艺，假如不是荷兰ASML公司未能及时交给EUV光刻机，或许中芯国际现在现已获得了更大的成果。

就在前不久，中芯国际CEO梁孟松带来了一个好消息，那便是中芯国际不必再等EUV光刻机了，由于现在中芯国际彻底用才能凭仗自己打破7nm工艺的妨碍。而且梁孟松还表明，中芯国际在2020年很或许会越过10nm工艺，直接冲击7nm大关。

值得一提的是，现在中芯国际现已成熟地把握了14nm工艺，而且14nm芯片也已投入大规模出产。别的，中芯国际还宣告了一个好消息，那便是中芯国际自主研制的N+1和N+2工艺将替代EUV光刻机完结7nm工艺，在这种工艺下出产出来的芯片，其功能提高了20%，功耗更是折半，此外，芯片的逻辑面积和SoC面积均有大幅下降，这彻底符合业界7nm制程工艺的规范。

现在，N+1工艺和N+2芯片还处于研制阶段，中芯国际正方案对N+1工艺芯片进行试产，这在某种程度上预示着中芯国际将成为国际上第三个把握7nm工艺的芯片代工企业。梁孟松还泄漏，在N+1工艺成熟后，中芯国际还将对N+2工艺进行进一步探究，该种工艺下的芯片功能将得到进一步提高。

此外，在中低端芯片上中芯国际也没有放下，现在第一代FinFET工艺也便是14nm工艺现已成功完成量产，中芯国际下一步的方案是推动第二代FinFET工艺（12nm工艺）的研制进程。在获得许多成果之后，中芯国际很好地向国际证明了一个问题，那便是即使没有ASML公司供给的光刻机，“我国芯”相同可以破茧而出，耀眼国际。